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真空鍍膜設備的產(chǎn)品特點

日期:2025-07-06 12:29
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摘要:
    真空鍍膜設備,主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

產(chǎn)品特點

    采用箱式結構,真空系統(tǒng)后置,便于操作和維修;整機表面平整,方便清潔,特別適合放置在凈化間內做穿墻式安裝。

    設備真空系統(tǒng)抽速大,具有抽氣時間短,真空度高,生產(chǎn)周期短等優(yōu)點。

    采用管狀加熱器上烘烤,烘烤溫度均勻,壽命長,可達到烘烤溫度350℃,烘烤均勻性270℃±10℃。

    工件轉動采用上部中心驅動,軸承帶水冷,磁流體密封,轉動平穩(wěn)。

    采用石英晶體膜厚控制儀,可實現(xiàn)鍍膜過程的自動控制。

    采用鍍膜控制系統(tǒng),人機操作界面美觀實用,系統(tǒng)穩(wěn)定,可實現(xiàn)系統(tǒng)的手動、半自動和全自動操作。

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