- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產品
真空熱壓爐是一種用于高溫熱處理和材料熱壓的設備。它能夠在真空環(huán)境下進行加熱和壓力施加，以實現(xiàn)材料的熱處理、燒結、熱壓連接等工藝。
CY-IVP120-50KG-Q真空熱壓爐配有120mm石英管、50kg電動壓力機，可以加熱到1000℃，帶水冷的法蘭可使真空度達到10-5torr（用分子泵），在壓力下可鍵合多層基片，是在真空高壓下制備致密化合物材料的理想設備。
1. 設備結構：真空熱壓爐通常由爐體、加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、壓力系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組成。爐體通常由高溫合金材料制成，具有良好的耐高溫和真空密封性能。
2. 加熱系統(tǒng)：真空熱壓爐的加熱系統(tǒng)通常采用電阻加熱器或感應加熱器。電阻加熱器通過電流通過加熱元件產生熱量，而感應加熱器則利用電磁感應原理產生渦流加熱。
3. 真空系統(tǒng)：真空熱壓爐的真空系統(tǒng)用于排除爐內的氣體，創(chuàng)造真空環(huán)境。真空系統(tǒng)通常包括真空泵、真空計、氣體冷凝器等設備。
4. 壓力系統(tǒng)：真空熱壓爐的壓力系統(tǒng)用于施加壓力，實現(xiàn)材料的熱壓連接。壓力系統(tǒng)通常包括液壓缸、壓力傳感器、壓力控制閥等設備。
5. 控制系統(tǒng)：真空熱壓爐的控制系統(tǒng)用于監(jiān)測和控制加熱、真空和壓力等參數(shù)。控制系統(tǒng)通常包括溫度控制器、真空度控制器、壓力控制器等設備。
6. 應用領域：真空熱壓爐廣泛應用于金屬材料、陶瓷材料、復合材料等的熱處理和熱壓連接。它在航空航天、汽車制造、電子器件等領域具有重要的應用價值。
真空熱壓爐主要技術參數(shù)：
|
產品名稱 |
高真空熱壓爐 |
|
取放模式 |
底部取料 |
|
數(shù)字電動壓力機 |
在爐底內置一臺數(shù)字電動壓力機 壓力范圍:≦50kg 時間設置:1 - 999 分鐘 工作空間:直徑100mm，高度100mm 壓頭材料:高純石墨 壓力控制精度:±50g |
|
立式爐 |
由鎳鉻鋁電阻絲加熱的可分體立式爐 *高工作溫度:1000℃<h *大升溫速率:≦10℃/分鐘 多段可編程控制器，精度為+/-1oC 功耗大約：3000W 電源輸入：208 - 240VAC，50/60 Hz 單相 |
|
加熱區(qū) |
加熱區(qū)長度大約：200mm 恒溫區(qū)長度大約：100mm |
|
測溫元件 |
K型熱電偶 |
|
石英管 |
石英管外徑120mm，內徑110mm，長度大約500 |
|
和密封法蘭 |
水冷法蘭安裝在管子的兩端，帶有KF16真空端口和壓力表，以及帶有不銹鋼針閥的氣體入口。 |
|
真空泵 |
1）機械泵：雙極旋片泵 2）極限真空：1Pa 3）抽氣接口：KF25 4）排氣接口：KF16 5）真空測量：電阻規(guī)數(shù)字真空計 6)旋片泵：1L/S |
|
水冷機 |
冷卻水壓>0.3 MPa,水流量>12L/min，冷卻水溫<40 ℃ |
|
電源要求 |
電壓220VAC；頻率50Hz |
|
爐膛材料 |
多晶氧化鋁纖維 |
